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NATIONAL STANDARD OF THE PEOPLE'S REPUBLIC OF CHINA
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GB/T 41064-2021
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表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法
Surface chemical analysis—Depth profiling—Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films |
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Issued Date: |
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Implemented Date: |
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Issued by: |
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The Standardization Administration of the People's Republic of China |
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| 標準代碼 |
GB/T 41064-2021 |
| 標準類別 |
中華人民共和國国家標準 |
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標準中文名稱 |
表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法 （英文版） |
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標準英文名稱 |
Surface chemical analysis—Depth profiling—Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films |
| 中文版價格 |
每1頁 $1 美元 |
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英文版翻譯費 |
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